中国の半導体受託製造(ファウンドリー)最大手、中芯国際集成電路製造(SMIC)は7月6日、投資家向け説明会を開催した。ひときわ注目を集めたのが、同社のEUV(極端紫外線)露光装置の調達計画に関する質疑応答だった。SMIC董事長(会長に相当)の周子学氏は、「現時点での生産や研究開発にEUV露光装置は必要ないが、調達計画に変更はない」と説明した。

SMICが将来、回路線幅7ナノメートルや5ナノメートルの製品の量産を実現するには導入が不可欠になる。現時点でEUV露光装置を実用化できたのは露光装置世界最大手の蘭ASMLしかなく、生産台数は年間30台に満たない。このため、世界中の大手半導体メーカーが先を争って発注している。

実はSMICもすでにEUV露光装置を発注しており、当初は2019年末に納入される予定だった。しかしまだ実現していない。最先端の露光装置の輸出にはオランダ政府の許可が必要であり、ASMLは19年11月に「政府の承認を待っている段階だ」と明らかにした。

外国製の最先端設備や原材料の調達リスクこそ、上海証券取引所のハイテク企業向け新市場「科創板」へ7月16日に上場したSMICについて投資家が最も危惧するポイントだ。中でも米国政府が中国企業に対する輸出規制を強めていることは、同社の経営に予想困難な悪影響を及ぼす可能性が否定できない。

(財新記者:屈慧、原文の配信は7月6日)

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